国产最新光刻机多少纳米(中国首台28nm光刻机问世)
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国产最新光刻机多少纳米(中国首台28nm光刻机问世)
05-06

一直以来,我国的半导体行业都深受西方国家的制约,究其原因就是我们缺乏先进的光刻机。如果美国断供我们芯片,我们有华为,展讯,紫光,中芯;如果美国限制台积电等代工厂,国内的中芯国际可以顶一顶。虽然国产芯片性能差了很多,但也不至于完全束手无策。

不过,倘若美国限制荷兰ASML的光刻机卖给我们,那国内的半导体行业就真的要陷入寒冬了。

光刻机作为科技工业的集大成之作,需要几千家供应商和一套完整的整合体系,才能生产出来,它也被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前在世界范围内,荷兰ASML公司的光刻机是最先进的,已经达到了5nm工艺。

而我国尚未形成完整的产业链,需要技术攻关的地方还有很多。当下最先进的国产光刻机还停留在90nm阶段,和ASML的5nm差距十分明显。

不过,最近上海微电子装备(集团)股份有限公司宣布,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。这台28nm光刻机大幅缩小了我国和荷兰的差距,在我国半导体行业发展上具有里程碑式的意义。

别看28nm和ASML的5nm隔着好几代的差距,但它已经是世界第二的水准了。(之前排第二的日本尼康仅能生产55nm。)而且在光刻机制程上,28nm是一个瓶颈,突破了28nm,接下来生产十几nm,甚至是10nm以内都会相对容易一些。万事开头难,产品迭代一旦开始,人才体系,资金扶持会源源不断地涌入。我国的光刻机研发也将迎来快速发展阶段,从步履瞒珊到一路小跑。

当然,我们必须认识到,除了7nm光刻机,卡尔蔡司的镜头,瑞典的步进电机,美国的激光光源,我们暂时还无法完成国产化,仍需要很长一段时间的攻关。但我们依然可以相信,光刻机的发展道路是曲折的,前途是光明的。

中国是一个善于创造奇迹的国家,哪怕再怎么技术封锁,两弹一星、核潜艇、载人航天,我们照样一个不落都有了。光刻机也不例外,总有一天我们会告别无芯之疼,不再受美国制约。

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